【オーバーコッヘン共同】オランダの半導体製造装置大手ＡＳＭＬホールディング向けに関連部品を納めるドイツのツァイス幹部は１６日、ＡＳＭＬと同様、中国には極端紫外線（ＥＵＶ）と呼ばれる最先端の製造技術を輸出していないと表明した。地政学的リスクが高まる中、中国依存を下げるなどサプライチェーン（供給網）の強化を進めているとも明かした。
米メディアは６月、中国が米輸出規制に違反してＡＳＭＬのＥＵＶ露光装置を入手した可能性を報じていた。ツァイスの半導体事業トップのフランク・ロームンド氏がドイツ南部オーバーコッヘンの本社で取材に応じ、技術流出を否定した形だ。
ＥＵＶは半導体に微細な回路を描く際に使われ、最先端半導体の製造に不可欠だ。ツァイスの基幹部品も採用されている。米国は中国への輸出を禁じ、日欧の企業などにも同調を求めている。ロームンド氏は「私たちは当然、法規制を順守している」と述べた。
規制によって中国は「最先端半導体を作る能力を制限されている」とも指摘。中国の技術水準がどの程度に達しているかの明言は避けた。
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